公益社団法人応用物理学会  極限ナノ造形・構造物性研究会
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公益社団法人応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会主催

2020年2-4回合同極限ナノ造形・構造物性研究会 講演会

日程 2020年10月26日(月)-27日(火)
場所
Web会議システム(Webex), 東北大学 多元物質科学研究所 南総合研究棟(仙台市青葉区片平)、緑水亭(仙台市太白区秋保町)
参加方法 参加資格
事前登録制(賛助会員・個人会員に限る)登録〆切9月30日
Web参加(参加費無料)
各社(所属)の運営委員を通じて、参加申込み(氏名・メールアドレス)をお願いいたします。
*運営委員リスト http://singlenano.org/committee.html
*同一所属で申込み多数の場合は、Webexの人数制限があるため、各社代表の運営委員と相談の上、参加人数を調整させていただきます。
*10月23日(金)に事前登録者にアクセス方法を事務局より連絡いたします。
現地参加(参加費有料)
*招待講演講師・運営委員からの回答に基づき、日程調整させていただいたため、現地参加者は締め切りました。
*参加費13,350円(振込手数料自己負担)
*別途ご案内に従い、期日までに振り込みをお願いいたします。
*コロナ感染症対策に基づく、キャンセル規程(別途送付)をご確認の上、振込みをお願いいたします。
*振込が確認できた時点で、事前登録完了となります。;
 プログラム(敬称略)













10月26日
(月)
第1部
12:30 開場

13:00 開会挨拶

13:10
『EUV リソグラフィの世界動向』
  古澤 孝弘 (大阪大学)

14:00
『レジスト材料の基板界面に係わる現象』
  八重樫 英民 (東京エレクトロン)

14:50 休憩

15:00
『半導体フォトカソード電子源を特徴とする電子ビーム検査技術』
  西谷 智博 (フォトエレクトロンソウル・名古屋大学)

15:50
『半導体デバイス製造用ナノインプリント装置の現状』
  酒井 啓太 (キヤノン)

16:40 第一部終了挨拶・WEB 意見交換会のご案内

第2部
20:00 WEB 意見交換会(講師を囲む会他)
WEB①会場 講師(古澤様、八重樫様、森様)
WEB②会場 講師(酒井様、下畠様、岩見様)
WEB③会場 造形セッション 自由討論
WEB④会場 構造物性セッション 自由討論
第2 部終了(最大22:00 まで)








10月27日
(火)
第3部
8:30 開場

9:00
『光学メタマテリアル・メタレンズの最近の動向』
  岩見 健太郎 (東京農工大学)

9:50
『ナノ構造制御による高性能熱電材料の開発』
  森 孝雄 (物質材料研究機構)

10:40
『EUV レジストの最新動向』
  下畠 孝二 (ダイセル)

11:30 閉会挨拶

*閉会後、運営委員会(11:50-12:50)をWEB会場⑤にて開催いたします。
*現地参加者は、研究室見学会にご参加いただけます。;

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