公益社団法人応用物理学会  極限ナノ造形・構造物性研究会
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公益社団法人応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会主催

2015年度2回極限ナノ造形・構造物性研究会 公開講演会


日程
平成27年6月22日(月)
13:10~17:00
  受付:12:30~
場所
東京工業大学 大岡山キャンパス 西9号館1階 デジタル多目的ホール
東急目黒急線 大岡山駅より徒歩5分
参加方法 どなたでも参加可能。
但し会員以外の方でテキストが必要な場合は1,000円となります。
下記申込みフォームからお申込みください。

(6/22 お申込みを締切ました)
協賛団体 応用物理学会ナノインプリント技術研究会
プログラム
13:10 - 14:00
「ナノパターンガラス基板上の配向膜成長」
大友 明(東京工業大学 大学院理工学研究科 教授)

14:00 – 14:50
「平坦度の超高精度絶対測定」
尾藤 洋一(産業技術総合研究所 計測標準研究部門 研究室長)

14:50 –15:20
休憩

15:20 – 16:10 
「Device Fabrication using Nanoimprint Lithography」
東木 達彦((株)東芝 セミコンダクタ&ストレージ社 半導体研究開発センター 技監)

16:10 – 17:00
「Low Temperature Dry Etching for Sub-5 nm Patterning」
Deirdre Olynick, Zuwei Liu, Daniel Staaks, Davide Tierno, Mike Kocsis, Xiaodan Gu, Thomas Russell, Justin Hwu, Valentyn Ishchuk, and Ivo Rangelow (Molecular Foundry)






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