公益社団法人応用物理学会 　極限ナノ造形・構造物性研究会
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公益社団法人応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会主催

2015年度2回極限ナノ造形・構造物性研究会　公開講演会

日程		 平成27年6月22日（月）
13:10～17:00 　　受付:12:30～
場所
 東京工業大学　大岡山キャンパス 西9号館１階 デジタル多目的ホール
東急目黒急線　大岡山駅より徒歩5分
参加方法 どなたでも参加可能。
但し会員以外の方でテキストが必要な場合は1,000円となります。
下記申込みフォームからお申込みください。
(6/22 お申込みを締切ました）
協賛団体 応用物理学会ナノインプリント技術研究会
プログラム
13:10 - 14:00
「ナノパターンガラス基板上の配向膜成長」
大友　明（東京工業大学　大学院理工学研究科　教授）
14:00 – 14:50
「平坦度の超高精度絶対測定」
尾藤　洋一（産業技術総合研究所　計測標準研究部門　研究室長）
14:50 –15:20
休憩
15:20 – 16:10　
「Device Fabrication using Nanoimprint Lithography」
東木　達彦（（株）東芝 セミコンダクタ＆ストレージ社　半導体研究開発センター　技監）
16:10 – 17:00
「Low Temperature Dry Etching for Sub-5 nm Patterning」
Deirdre Olynick, Zuwei Liu, Daniel Staaks, Davide Tierno, Mike Kocsis, Xiaodan Gu, Thomas Russell, Justin Hwu, Valentyn Ishchuk, and Ivo Rangelow (Molecular Foundry)

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