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「シングルナノパターニング研究グループ」設立記念講演会 |
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日程 |
2013年2月1日(金) 13:00-16:50
受付開始12:20〜 当日は冊子(テキスト)のお渡しはございません。
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場所 |
東京工業大学(大岡山キャンパス) 大岡山キャンパス西9号館
デジタル多目的ホール 東急線大岡山駅より徒歩5分
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協賛団体 |
学振132委員会、
(応用物理学会)
ナノインプリント技術研究会
次世代リソグラフィ技術研究会
シリコン分科会
(高分子学会)
光応用・電子用材料研究会 |
参加申込方法 |
先着200名 参加費無料 Webからお申込みください |
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プログラム |
13:00-13:10 |
挨拶
松井 真二 「シングルナノパターニング研究グループ」委員長
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13:10-14:00 |
基調講演 「世界のナノテク国家戦略の現況」
田中 一宜 (独)科学技術振興機構 研究開発戦略センター 上席フェロー
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14:00-14:50 |
招待講演 「半導体リソグラフィから見た“シングルナノパターニング”への期待」
東木 達彦 (株)東芝 セミコンダクター&ストレージ社 半導体研究開発センター
リソグラフィ技術開発部 部長
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14:50-15:10 |
休憩
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15:10-16:00 |
招待講演 「シングルナノパターニングを目指す次世代リソグラフィ技術の研究状況」 岡崎 信次 ギガフォトン(株) EUV開発部 部長付
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16:00-16:50 |
「シングルナノパターニング研究の現況と研究課題」 松井 真二 「シングルナノパターニング研究グループ」委員長
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