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公益社団法人応用物理学会極限ナノ造形・構造物性研究会主催
2016年1回極限ナノ造形・構造物性研究会
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日程 |
平成28年1月27日（水）
13:10～16:50
受付:12:40～
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場所
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東京工業大学西9号館1F
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| 参加方法 |
会員のみ参加可能。
12月24日にご案内をお送り致します。 |
| プログラム |
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| 13:10-14:00 |
「ガラスナノインプリント技術（微細化の限界）」
西井
準治（北海道大学）
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| 14:00-14:50 |
「誘導自己組織化(DSA)リソグラフィーによるハーフピッチサブ
15 nm 半導体デバイス回路パターン形成」
東 司、清野 由里子、佐藤 寛暢、笠原 佑介、小林 克稔、小寺 克昌、金井 秀樹、木原 尚子、川門前 善洋、
峯岸 信也、宮城 賢、戸花 敏勝、 白石 雅之、山野 仁詩、野村 聡（（株）EUVL基盤開発センター（EIDEC））、
早川 晃鏡（東京工業大学）
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14:50-15:10
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休憩
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15:10-16:00
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「両親媒性ブロック共重合体で自己組織化した親水性ナノシリンダによるDNA鎖搬送制御」
吉田 博史（日立製作所）
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16:00-16:50
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「Photomask CD-SEM、最近の話題」
安宅 正志 （ホロン）
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